光刻膠又稱光致抗蝕劑，是由感光樹脂、增感劑和溶劑等組成的光敏感混合液體。它在集成電路、太陽能光伏、微機電系統等領域應用廣泛。

　　高均勻性的光刻膠薄膜多采用旋轉涂膠工藝。利用旋轉涂膠工藝所獲得的光刻膠薄膜最終厚度是由光刻膠的粘度、表面張力和轉盤的旋轉角速度等因素決定，絕大多數的光刻膠因旋轉涂膠時的離心力被甩離晶圓表面，造成浪費現象，故光刻膠利用率極低。

　　針對光刻膠涂覆工藝(旋轉涂膠工藝)的浪費和環境污染問題，馳飛超聲波在自行研發的120KHZ的超聲波霧化噴涂設備的基礎上，對光刻膠噴涂工藝進行改進。

　　超聲波霧化噴涂設備電源功耗(10W)低，產生的霧化液滴平均粒徑小、均勻性好，液滴直接噴涂在晶圓表面上的光刻膠利用率高，因此它被認為是一種綠色的光刻膠薄膜制備工藝。而普通超聲波霧化噴涂設備表面的霧化液滴初始速度小，易于受到周圍空氣的擾動，不利于獲得高質量的光刻膠薄膜，難以實現理想的噴涂效果。為此，馳飛超聲波在超聲波霧化噴涂設備中加入載氣模塊增加霧化液滴的動力，控制霧化噴涂方向和范圍，實現光刻膠薄膜的定向噴涂于基底的晶圓表面。